Hinter dem kryptischen Namen «RIE-10NR-Parallelplattenreaktor» verbirgt sich modernste Technologie – ein System, das die Mikrostrukturierung von Wafern unterschiedlichster Art ermöglicht. Zum Einsatz kommt dabei ein spezielles plasmagestütztes Ätzverfahren, das sogenannte «Reactive Ion Etching» (RIE), das feinste Strukturen auf den Prozessscheiben ermöglicht. Hersteller dieser Anlagentechnik ist das japanische Unternehmen Samco, ein weltweit führender Anbieter von Halbleiter-Prozessequipment. Samco und das Institut für Mikrotechnik und Photonik (IMP) der OST – Ostschweizer Fachhochschule gehen nun eine strategische Partnerschaft ein. So ist kürzlich das Plasma-Ätzsystem RIE-10NR zusammen mit dem UV-Reiniger UV-2 der Firma Samco im Reinraum des IMP am Standort Buchs installiert und erfolgreich in Betrieb genommen worden.